项目数量-17
近场光学成像分辨率测试
北检院检测中心 | 完成测试:次 | 2026-03-18
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试望见谅。
检测项目
横向光学分辨率:评估系统在垂直于光轴平面内区分两个相邻点源或线状结构的最小距离,是核心性能指标。
纵向分辨率:测量系统沿光轴方向区分两个点源或层状结构的能力,反映其三维成像的层析精度。
探针孔径尺寸与形状标定:精确测量近场光学探针(如光纤探针、散射探针)末端的物理孔径尺寸与几何形状。
近场光斑尺寸与分布:表征探针尖端局域激发或收集的光场在样品表面的实际光斑大小及能量空间分布。
光学透过率/耦合效率:测量从光源到探针尖端,或从样品信号到探测器的整个光路传输效率。
信号背景比:评估来自目标近场区域的信号强度与来自远场背景噪声的比值,直接影响图像对比度。
扫描定位精度与重复性:测试压电扫描器驱动探针或样品进行扫描时的位置控制精度与重复定位能力。
系统振动与噪声水平:量化环境振动及系统电子噪声对成像稳定性和信噪比的影响程度。
工作距离稳定性:检测在扫描过程中,探针尖端与样品表面之间纳米级间距的保持能力。
光谱分辨率(若为光谱型):对于具备光谱探测功能的系统,评估其分辨不同波长光信号的能力。
检测范围
标准分辨率测试样品:使用已知周期的光栅、点阵或线宽的标准样品进行定量分辨率测定。
金属纳米结构:对金、银等制备的纳米颗粒、纳米棒、纳米间隙结构进行成像,评估表面等离激元场分辨能力。
半导体量子点与纳米线:检测系统对低维半导体材料发光特性在纳米尺度的空间分辨与光谱分辨能力。
二维材料(如石墨烯)边缘与缺陷:通过对单层二维材料的边缘、褶皱、缺陷位点成像,检验其超高分辩率。
生物大分子组装体:如病毒颗粒、蛋白质纤维等,测试系统在液态或近生理环境下对软物质的成像能力。
光子晶体与超构表面:对具有亚波长周期性结构的光学元件进行成像,验证其电磁场局域模式的探测效果。
单分子荧光成像:利用单个荧光分子作为点光源,直接测定系统的实际分辨率极限。
近场相位分布:对于干涉型近场显微镜,检测范围包括样品表面反射或透射光场的相位变化。
动态过程监测:评估系统对表面化学反应、相变、生物过程等动态事件进行时间分辨成像的能力。
极端环境适应性:测试系统在低温、高温、真空或特定气氛等非标环境下的分辨率稳定性。
检测方法
刀边扫描法:扫描一个尖锐的金属边缘,通过分析光强变化的边缘响应函数来推导分辨率。
傅里叶环相关法:对采集的图像进行傅里叶变换,通过计算两个独立采集图像频谱的相关性来定量分辨率。
标准光栅成像法:对已知精确周期的光栅样品成像,通过能否清晰分辨相邻线条来直接判定横向分辨率。
单分子点扩散函数法:将单个荧光分子视为理想点源,拟合其成像光斑的强度分布(点扩散函数)得到半高宽。
剪切力反馈校准法:利用探针在样品表面振荡的剪切力变化进行距离反馈控制,确保测试在恒定近场距离下进行。
光谱扫描成像法:在每个扫描点上采集完整光谱,通过分析特定光谱特征的空间变化来评估光谱-空间联合分辨率。
互易性验证法:交换光源和探测器的位置,验证成像结果是否遵循光学互易定理,以评估系统对称性。
有限差分时域模拟对比法:将实际成像结果与针对测试样品的FDTD理论模拟电磁场分布进行对比验证。
重复扫描平均法:对同一区域进行多次扫描并平均,以降低随机噪声,更准确地提取分辨率极限信息。
动态范围测试法:使用具有极大和极小反射/荧光对比度的样品,测试系统在不同信号强度下的分辨保真度。
检测仪器设备
扫描近场光学显微镜:核心主机设备,集成探针扫描、信号探测、反馈控制等模块,是进行测试的平台。
原子力显微镜耦合模块:提供高精度形貌扫描与剪切力距离反馈控制,确保光学信号与样品表面形貌同步获取。
超连续谱白光激光器:提供宽谱、高亮度的激发光源,特别适用于光谱型近场成像的分辨率测试。
单光子计数雪崩光电二极管:用于探测极弱荧光或散射信号的高灵敏度探测器,提升信噪比。
检测流程
线上咨询或者拨打咨询电话;
获取样品信息和检测项目;
支付检测费用并签署委托书;
开展实验,获取相关数据资料;
出具检测报告。
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