项目数量-3473
硅酸锰成分检测
北检院检测中心 | 完成测试:次 | 2025-04-25
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试望见谅。
检测项目
硅酸锰成分检测体系包含三大类共12项核心指标:
主量元素分析:MnSiO3中锰(Mn)与硅(Si)的摩尔比测定
杂质元素检测:铁(Fe)、铝(Al)、钙(Ca)、镁(Mg)等金属杂质总量控制
物理性能指标:粒径分布(D50/D90)、比表面积(BET法)、灼烧减量(LOI)
晶体结构表征:XRD物相分析确认斜方晶系特征峰
化学稳定性测试:酸溶失率(5% HCl溶液浸出实验)
检测范围
应用领域 | 检测重点 | 标准依据 |
---|---|---|
冶金工业 | 合金添加剂中Mn/Si比控制 | ASTM E1941-10 |
陶瓷釉料 | Fe3+杂质限值≤0.15% | ISO 21078-1:2008 |
锂电正极材料 | D50粒径1.5-3.0μm控制 | GB/T 19077-2016 |
催化剂载体 | 比表面积≥25m2/g | ISO 9277:2010 |
耐火材料 | 灼烧减量≤2.5%(1000℃×2h) | JIS R2204:1995 |
检测方法
X射线荧光光谱法(XRF)
采用熔融玻璃片法制样,Rh靶40kV/60mA条件下采集Mn Kα(5.899 keV)与Si Kα(1.740 keV)特征谱线强度。通过理论α系数法校正基体效应,测定范围覆盖0.01%-99.99%浓度区间。
电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)
试样经氢氟酸-硝酸高压消解后,选择Mn 257.610nm与Si 251.611nm分析谱线。采用基体匹配标准溶液建立校准曲线,检出限达0.5mg/kg。
电位滴定法(EDTA络合滴定)
在pH=10氨性缓冲体系中,以铬黑T为指示剂,用0.05mol/L EDTA标准溶液滴定至溶液由酒红色变为纯蓝色终点。
激光粒度分析法(LPSA)
采用湿法分散模式,以0.05%六偏磷酸钠为分散剂,在超声功率300W条件下分散3分钟后进行测试。
X射线衍射分析法(XRD)
CuKα辐射(λ=1.5406Å),扫描范围10°-80°(2θ),步长0.02°,扫描速度4°/min。
检测仪器
波长色散X射线荧光光谱仪(WDXRF)
配备4kW Rh靶X光管及五晶体分光系统,配备PG/PE双探测器系统。
全谱直读ICP光谱仪
采用中阶梯光栅分光结构,配备CID阵列检测器及耐氢氟酸进样系统。
自动电位滴定工作站
配置动态等当点识别算法及防结晶电极保护装置。
激光粒度分析仪
采用米氏散射理论计算模型及132通道对数探测器阵列。
多功能X射线衍射仪
配置θ/θ测角仪及石墨单色器,配备PDF-4+矿物数据库。
热重-差热联用仪(TG-DTA)
最高温度1500℃,升温速率0.1-50℃/min可调。
比表面及孔隙度分析仪
采用静态容量法原理,配备分子涡轮泵及高精度压力传感器。
组分 | 产品等级 | ||
---|---|---|---|
A级品 | B级品 | C级品 | |
MnSiO3 | (±0.3%)>≥97.0% (±0.5%) >≥95.0% (±1.0%) (±1.0%) (±1.0%) (±1.0%) | ||
TFe (总铁) | (±0.02%) >≤0.25% (±0.03%) >≤0.35% (±0.05%) | ||
Cao+MgO (总量) | (±0.05%) >≤0.50% (±0.08%) >≤1.00% (±0.10%) | ||
S (硫) | (±0.002%) >≤0.015% (±0.003%) >≤0.020% (±0.005%) | ||
Crystal phase (晶相纯度) | 斜方晶系特征峰强度比≥95%(JCPDS 29-0897) | ||
注:括号内数值为允许绝对偏差值 |
关键控制点说明:
锰硅比测定需同步进行EDTA容量法与XRF法的交叉验证
Fe³⁺/Fe²⁺比值需通过邻菲罗啉分光光度法单独测定
粒径分布测试前必须进行超声分散条件优化实验
XRD定量分析需采用Rietveld全谱拟合方法
灼烧减量测试应控制升温速率为10℃/min
异常数据处理原则:
平行样相对偏差>5%时需重新制样测试
检测流程
线上咨询或者拨打咨询电话;
获取样品信息和检测项目;
支付检测费用并签署委托书;
开展实验,获取相关数据资料;
出具检测报告。

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