氧化铌检测

北检院检测中心  |  完成测试:  |  2025-05-14  

氧化铌作为高性能陶瓷、电子元件及催化剂的关键材料,其理化性质的精准检测对产品质量控制至关重要。本文围绕氧化铌纯度、杂质含量、晶型结构等核心指标展开分析,系统阐述X射线衍射法(XRD)、电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)等主流检测技术的应用规范及仪器选型原则。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试望见谅。

检测项目

氧化铌检测体系涵盖以下核心指标:

纯度测定:主成分Nb₂O₅含量需达到99.5%-99.99%的工业标准

杂质元素分析:重点监控Ta、Fe、Ti等金属杂质及Cl⁻、SO₄²⁻等阴离子残留

晶型结构表征:通过α相与β相比例判定材料热稳定性

粒度分布测试:D50值控制范围通常为0.5-10μm

比表面积测定:催化级产品要求≥20m²/g的比表面积

化学稳定性评估:包括酸碱溶解性及高温氧化实验

检测范围

本检测方案适用于以下应用场景:

电子材料领域:MLCC介质层用高纯氧化铌粉体

光学镀膜行业:折射率调控用Nb₂O₅薄膜前驱体

催化剂制备:固体酸催化剂载体材料

特种陶瓷生产:介电陶瓷基板原料

核工业应用:中子吸收材料组分分析

科研机构研究:新型铌基化合物开发验证

检测方法

X射线衍射法(XRD):依据JIS R1634标准进行晶型定量分析,采用Rietveld全谱拟合技术计算α/β相比例

电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES):按GB/T 17414.3规范消解样品后测定金属杂质含量

激光粒度分析法(LPSA):基于ISO 13320标准进行干/湿法分散测试

比表面积测定法(BET):通过N₂吸附等温线计算多点BET值

热重分析法(TGA):在空气气氛下以10℃/min升温速率测试热稳定性

扫描电子显微镜(SEM):配合EDS进行微观形貌与元素分布表征

检测仪器

X射线衍射仪:配备高温附件及原位反应腔体,角度重复性≤0.0001°

全谱直读ICP光谱仪:具备轴向观测系统及四级杆碰撞池技术

激光粒度分析仪:测量范围0.01-3500μm,配备超声分散模块

物理吸附分析仪:支持77K液氮温度下的微孔分析功能

同步热分析仪:集成TGA-DSC同步测量系统,温度精度±0.1℃

场发射扫描电镜:分辨率达1nm级别,配备牛津能谱仪附件包

微波消解系统:40位高通量消解工作站,控温精度±0.5℃/s

离子色谱仪:配备电导检测器及阴/阳离子分离柱组件套件

检测流程

线上咨询或者拨打咨询电话;

获取样品信息和检测项目;

支付检测费用并签署委托书;

开展实验,获取相关数据资料;

出具检测报告。

北检(北京)检测技术研究院
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