项目数量-40536
研磨液FTIR检测
北检院检测中心 | 完成测试:次 | 2025-08-22
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试望见谅。
检测项目
羟基指数测量:通过红外吸收光谱分析羟基基团含量,检测参数为吸收峰位置3400-3600 cm⁻¹,强度精度±0.5%。
硅含量分析:测定硅氧烷类化合物的浓度,检测参数为Si-O-Si伸缩振动峰位1000-1100 cm⁻¹,定量范围0.1-100 ppm。
碳氢键鉴定:识别烷烃和烯烃结构,检测参数为C-H伸缩振动频率2800-3000 cm⁻¹,分辨率4 cm⁻¹。
酯类化合物检测:分析酯基官能团,检测参数为C=O伸缩峰1730-1750 cm⁻¹,吸收强度线性度±2%。
水分含量测定:量化游离水分子,检测参数为O-H弯曲振动峰1640 cm⁻¹,检出限0.01%。
添加剂定性:识别润滑剂和抗磨剂,检测参数为特征指纹区600-1500 cm⁻¹,谱图匹配度误差<5%。
污染物筛查:检测金属离子杂质,检测参数为无机物振动波段400-700 cm⁻¹,灵敏度0.5 µg/g。
pH稳定性评估:通过酸碱性基团变化,检测参数为羧酸峰1700-1720 cm⁻¹,动态范围pH 3-11。
氧化降解分析:监测研磨液老化程度,检测参数为过氧化物峰880 cm⁻¹,老化指数计算误差±3%。
粘度相关性研究:基于分子间作用力光谱,检测参数为氢键强度变化3200-3400 cm⁻¹,相关系数R²>0.95。
颗粒分散性评价:分析悬浮颗粒表面化学,检测参数为散射修正因子,粒径关联精度±1 µm。
热稳定性测试:观察高温下结构变化,检测参数为变温光谱偏移,温度范围25-200°C。
检测范围
金属加工研磨液:用于车削和铣削工艺的冷却润滑液。
陶瓷研磨浆料:应用于精密陶瓷器件抛光的高固含量悬浮液。
半导体CMP浆料:化学机械抛光过程中的二氧化硅或氧化铝基研磨液。
光学玻璃抛光液:用于透镜和镜面制造的硅酸盐类研磨介质。
石材切割液:花岗岩和大理石切割中的水性或油性研磨剂。
电子工业清洗液:去除电路板残留物的化学研磨混合液。
医疗器械抛光剂:人工关节和植入物表面处理的生物相容性研磨液。
汽车零部件研磨膏:发动机部件精磨的复合润滑研磨材料。
航空航天涂层去除液:飞机表面涂层剥离的化学研磨溶液。
3D打印后处理液:增材制造件的支撑结构去除研磨介质。
珠宝加工抛光液:贵金属和宝石抛光的微细研磨乳液。
复合材料成型液:碳纤维增强聚合物的表面处理研磨剂。
检测标准
依据ASTM E1421标准进行红外光谱法检验。
ISO 15711规范用于涂层材料化学分析。
GB/T 6040标准规定红外光谱通用测试方法。
ASTM D5477规范涵盖工业流体光谱鉴定。
GB/T 16582标准针对聚合物材料红外表征。
ISO 1833标准适用于纺织品化学组分分析。
GB/T 3185标准规定研磨剂化学检测要求。
检测仪器
傅里叶变换红外光谱仪:采用干涉仪和检测器采集光谱,在检测中执行全波段扫描和背景扣除,波长范围4000-400 cm⁻¹。
衰减全反射附件:通过内反射原理测量样品表面,在检测中实现无损分析液体薄膜,入射角45-60度。
漫反射积分球:收集散射光信号,在检测中适用于粉末状研磨液样品,信噪比优于500:1。
显微红外系统:结合显微镜和光谱仪,在检测中进行微区成分映射,空间分辨率10 µm。
变温控制单元:调控样品温度环境,在检测中监测热诱导光谱变化,温控精度±0.5°C。
流动池装置:实现连续液体进样,在检测中支持在线过程监控,流速范围0.1-10 mL/min。
检测流程
线上咨询或者拨打咨询电话;
获取样品信息和检测项目;
支付检测费用并签署委托书;
开展实验,获取相关数据资料;
出具检测报告。

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