硅溶胶不溶物检测

北检院检测中心  |  完成测试:  |  2025-08-18  

硅溶胶不溶物检测通过专业方法测定硅溶胶溶液中不溶性物质的含量,确保产品质量稳定。关键检测要点包括样品过滤、重量分析、颗粒形态观察及化学稳定性评估,严格遵循国际和国家标准进行精确测量。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试望见谅。

检测项目

不溶物含量测定:测定硅溶胶中不溶性颗粒的总质量百分比。具体检测参数包括过滤后残留物质量测量精度0.1mg,计算范围为0.01%至10%。

颗粒大小分布分析:评估不溶物颗粒的粒径分布特性。具体检测参数包括粒径测量范围0.1μm至100μm,分布曲线绘制精度5%。

pH值影响测试:考察溶液pH对不溶物形成的影响。具体检测参数包括pH调整范围2.0至12.0,误差控制0.1单位。

过滤残留物微观观察:使用显微镜技术观察残留颗粒形态。具体检测参数包括放大倍数40倍至1000倍,形状分类精度2μm。

离心分离效率测定:评价离心法分离不溶物的有效性。具体检测参数包括离心速度1000rpm至10000rpm,时间设定1分钟至30分钟。

化学稳定性检验:测试硅溶胶在不同化学环境下的不溶物变化。具体检测参数包括试剂浓度0.1mol/L至10mol/L,反应时间1小时至24小时。

温度依赖性分析:评估温度对不溶物沉淀速率的影响。具体检测参数包括温度控制范围20℃至100℃,升温速率1℃/min至5℃/min。

电导率相关性测量:检测溶液电导率与不溶物浓度的关联。具体检测参数包括电导率量程1μS/cm至1000μS/cm,精度0.5%。

粘结强度测试:测定不溶物在基底材料的粘结性能。具体检测参数包括粘结力范围0.1N至100N,拉伸速度0.1mm/min至10mm/min。

光学透明度评估:通过透光率变化间接反映不溶物含量。具体检测参数包括波长范围400nm至800nm,透光率测量误差0.5%。

离子浓度影响分析:评估特定离子对不溶物生成的促进作用。具体检测参数包括离子种类钠、钙等,浓度0.01mg/L至100mg/L。

粘度变化监测:测量硅溶胶粘度随不溶物增加的变化。具体检测参数包括粘度范围1mPas至1000mPas,剪切速率0.1s⁻至1000s⁻。

检测范围

催化剂载体:硅溶胶作为催化剂支撑材料的应用领域。

精密铸造涂层:用于金属铸造模具的表面处理材料。

涂料添加剂:提升涂料附着力和耐久性的功能组分。

陶瓷工业浆料:陶瓷成型过程中的粘结和填充材料。

电子封装材料:半导体器件封装中的绝缘和密封组分。

医药制剂涂层:药物片剂或医疗器械的表面改良层。

纸品处理剂:纸张增强强度和防水性能的涂布材料。

纺织工业助剂:织物整理中的抗皱和手感改善剂。

水处理过滤介质:用于去除水体杂质的过滤材料。

食品包装涂层:食品容器内壁的保鲜和防渗层。

光学玻璃抛光剂:玻璃表面抛光处理的辅助材料。

胶粘剂成分:粘接剂中的增稠和稳定组分。

建筑防水材料:混凝土或石材的防水密封层。

电池电解质添加剂:锂电池电解液的稳定剂。

检测标准

依据ASTMD2805进行硅溶胶不溶物含量测定。

采用ISO787-17规范颗粒过滤分析方法。

引用GB/T5009.64对食品级硅溶胶杂质限量要求。

执行GB/T10247标准测量粘度相关参数。

遵循ASTME70测定pH值影响因素。

依据ISO13320评估颗粒粒度分布。

引用GB/T12690进行化学稳定性测试。

采用ASTMD445规范粘度变化监测程序。

执行ISO3696对水质纯度的要求。

引用GB/T5750进行水处理应用检测。

检测仪器

分析天平:高精度称量设备用于测量过滤后残留物质量。在本检测中具体功能为实现不溶物重量的精确计量。

真空过滤装置:样品分离设备用于高效过滤硅溶胶溶液。在本检测中具体功能为分离不溶性颗粒并进行收集。

光学显微镜:放大观察仪器用于分析颗粒形态和尺寸。在本检测中具体功能为评估不溶物形状和分布特征。

离心机:高速旋转设备用于加速不溶物沉淀。在本检测中具体功能为分离细小颗粒并测定沉降效率。

粒度分析仪:激光散射设备用于量化颗粒大小分布。在本检测中具体功能为生成粒径统计数据和曲线图。

pH计:酸碱度测量设备用于监控溶液pH变化。在本检测中具体功能为评估pH对不溶物形成的影响。

粘度计:流体特性测试设备用于测量硅溶胶粘度。在本检测中具体功能为监测不溶物浓度引起的粘度波动。

检测流程

线上咨询或者拨打咨询电话;

获取样品信息和检测项目;

支付检测费用并签署委托书;

开展实验,获取相关数据资料;

出具检测报告。

北检(北京)检测技术研究院
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