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JB/T 7704.5-1995 电镀溶液试验方法 整平性试验

北检院检测中心  |  点击量:16次  |  2024-12-02 09:14:48  

标准中涉及的相关检测项目

标准《JB/T 7704.5-1995 电镀溶液试验方法 整平性试验》中提到的相关内容主要包括以下几个方面:

检测项目:
  • 整平性试验:主要用于评估电镀溶液对金属表面平整度的影响。
检测方法:
  • 采用Hull Cell法进行试验,通过电流密度的变化观察镀层整平效果。
  • 使用专用测试片进行试验,以观察镀层的平滑度和光泽度
  • 对比分析显微镜下镀层的结构与平整度。
涉及产品:
  • 电镀溶液,包括各种用于不同金属电镀工艺的化学溶液。
  • 电镀后的金属制品,这些制品可能包括电子元件、装饰件以及各种工业部件。
  • 用于测量整平性的专用测试片和工具。

通过以上检测项目和方法,能够有效评估电镀溶液的性能,确保电镀产品的质量和功能性。

JB/T 7704.5-1995 电镀溶液试验方法 整平性试验的基本信息

标准名:电镀溶液试验方法 整平性试验

标准号:JB/T 7704.5-1995

标准类别:机械行业标准(JB)

发布日期:1995-06-20

实施日期:1996-01-01

标准状态:现行

JB/T 7704.5-1995 电镀溶液试验方法 整平性试验的简介

本标准规定了电镀溶液整平性能的试验方法。本标准适用于具有各类整平性能的电镀溶液。JB/T7704.5-1995电镀溶液试验方法整平性试验JB/T7704.5-1995
本标准规定了电镀溶液整平性能的试验方法。本标准适用于具有各类整平性能的电镀溶液。


JB/T 7704.5-1995 电镀溶液试验方法 整平性试验的部分内容

中华人民共和国机械行业标准

电镀溶液试验方法

整平性试验

1主题内容与适用范围

本标准规定了电镀溶液整平性能的试验方法。本标准适用于具有各类整平性能的电镀溶液。2引用标准

GB6462

2金属和氧化物覆盖层横断面厚度显微镜测量方法3术语

整平作用:镀液所具有的使镀层表面比底层表面更平滑的能力。4方法原理

JB/T 7704.5-95

人为地制造出有微观粗糙平面的试样,在待测镀液中进行电镀,测量试样表面电镀前后微观轮廓的变化、以评定镀液的整平性能。5试验方法

5.1假正弦波法

5.1.1概述

用裸铜线紧密缠绕铜棒制成表面有规则“波峰”、“波谷”的阴极试样,在待测镀液中电镀。测量镀后阴极试样微观表面“峰”、“谷”振幅(镀层厚度)的变化,评定镀液的整平能力。5.1.2试验仪器及设备

带摄影装置的金相显微镜;

金相镶嵌机:

c.金相抛光机:

d,试验室电镀设备。

5.1.3镀液及工艺条件

待测镀液及间隔层镀液。选择的间隔层镀液应仅有几何整平性,其镀层与待测镀液镀层色泽对比度大为佳。多选用氰化镶铜液和普通镀镍液。电镀工艺条件由相应镀液规定。5.1.4阴极试样及阳极

5.1.4.1阴极试样

取g5mm的铜棒.在铜棒一端,从偏离圆心处垂直于圆截面锯开一条长约20mm的细缝.用0.15mIm裸铜丝沿铜棒锯开段,一圈挨--圈地依次紧密缠绕铜棒成螺旋状,使其剖面垩现为有波峰“波谷”状有规则的假正弦波形,将其用作阴极试样。5.1.4.2阳极

选取与镀液相应的并符合国家标准的阳极板。机械工业部1995-06-20批准

1996-01-01 实施

5.1.5试验步骤

JB/T 7704. S --. 95

5.1.5.1将待测镀液和间隔层镀液分别注人各自镀槽中,并在槽中置人相应阳极,按工艺条件要求将镀液在预选温度恒温。

5.1.5.2阴极试样经常规镀前处理后,带电入间隔层镀槽中闪镀打底。5.1.5.3闪镀后试样经水洗,弱酸浸蚀后,置入待测镀槽中,按规定的电流密度电镀15~~20min;取出试样,水冲洗后迅速带电入间隔层电镀槽中,按其规定的电流密度电镀3~~5min.如此使待测镀液镀层与间隔层镀层相间循环电镀6~~7次,最后镀间隔层约30mi作为加厚保护层。5.1.5.4将电镀层阴极试样沿锯缝剖开,锯下带轴心绕线部分然后按GB6462规定的方法制成金相试样.在300倍金相显微镜下观察,并与测微标尺在同倍数下一同摄影。冲洗出金相照片。5.1.6结果计算

5.1.6.1用测微标尺照片,在试样金相照片上测量待测镀液镀出镀层的假正弦波振幅(α)和波峰外的累积厚度(),并作α-关系曲线,如图1所示。alum

图假正弦波法振幅α与波峰镀层累积厚度关系曲线5、1.6.2在图中作α=直线.与曲线相交于L点。5.1.6.3读出L点在α轴上的投影数值al代入式(1).求得整平能力值。E= 0.4la-α × 100%

式中:E—一整平能力:

ao—一待测镀液镀出的镀层厚度为零时的假正弦波振幅.即铜丝半径·um;a—假正弦波振幅等于波峰上累积镀层厚度时的振幅,um5.1.7影响试验结果的因素

5.1.7.1试样的制备

如果制备的试样裸铜丝不圆或者缠绕不紧密。测量结果将有偏差。5.1.7.2电镀前处理

如果电镀前处理使试样表面产生磨损或腐蚀,或者在线匝间镶嵌进杂质.会使测量结果产生偏差。5.1.7.3金相制样

金相制样中,如果剖样、抛光和浸蚀不当·会造成测量结果产生偏差。5.1.7.4间隔层

选取的间隔层镀液必须仅有几何整苹性,间隔层边界在显微镜中应清晰(最好整层呈一条明晰隔离细线),否则将因测量困难造成结果的偏差。5.2轮廓仪法(霍尔槽试验测定法)5.2.1概述

JB/T 7704.5-95

通过用喷砂等人工方法制备出一定粗糙度的标准试片,再将待测镀液放置翟尔槽中按相应工艺条件进行电镀.用轮廓仪对键后试片进行测量.根据电镀前后试片表面粗糙度值的相对变化计算镀液整平能力。

5.2.2试验仪器及设备

表面轮廓仪(粗糙度测定仪);a.

霍尔槽试验装置;

试验室电镀装置。

5.2.3镀液及工艺条件

5.2.3.1镀液:待测电镀溶液。

5.2.3.2工艺条件:按电镀溶液工艺条件进行。5.2.4阴极试样和阳极

5.2.4.1阴极试样:将70mm×100mm的铜片或者铁片.进行喷砂处理或用砂轮、砂纸打磨、制成其表面粗糙度R.为2.7m.1.0um,0.5μm的三种试片。背面涂绝缘涂料.烘干。5.2.4.2阳极:根据待测镀液要求选择符合国家标准的相应阳极材料制成霍尔槽阳极。5.2.5试验步骤

5.2.5.1将待测键液250ml.注入霍尔槽中,置入阳极,按工艺条件要求将镀液在预选温度恒温。5.2.5.2将霍尔槽试片从距低电流密度端0.5cm处开始,到9.5cm处为止间隔1cm划出10根线.用轮廓仪分别在此线中部位测出其表面平均粗糙度值R(um)。5.2.5.3将霍尔槽试片背面涂上绝缘涂料,烘干,经弱酸洗、水洗后带电人槽.紧贴在翟尔槽内斜壁上。5.2.5.4按照镀液相应的工艺条件.选择一定的电流强度和电镀时间进行电镀。5.2.5.5将镀后霍尔槽试片经水洗烘干后、按在5.2.5.2中规定的相应测量部位.用轮廓仪测量其表面平均粗糙度值R(um)。并根据式(2)计算整平性。5.2.5.6根据需要。可绘制出如图2(例)的结果曲线,对镀液整平性能进行比较。5.2.6结果计算

R.=R × 100%

整平性=年

式中:R。—一镀前霍尔槽试片的平均粗糙度·um;R。——镀后霍尔槽试片的平均粗糙度μm。3.0F

。镀前

·镀后

8910

赫尔槽试片上的位置

图2霍尔槽法测试整平性结果曲线(例)2)

有时·也可直接用工件或与工件表面粗糙度相同的试片考查其整平性·此时,将工件或试片按工艺条件在待测镀液中电镀一定时间后,测量其电镀前启表面平均粗糙度值R(μm).按式(2)计算出待测19

JB/T 7704.5 --95

镀液的整平能力。需要注意的是,此时各工件镀前的表面粗糙度和镀后镀层厚度都必须基本一致,其计算出的整平能力方可比较。

5.2.7影响试验结果的因素

5.2.7.1电镀工艺条件

在试验过程中,电镀工艺条件如电流、温度、pH值等不稳定.将使待测镀液电流效率发生变化.镀出试片镀层厚度变化也较大整平性结果的偏差也较大。5.2.7.2电镀前处理

经喷砂或打磨等方法制备出的满足5.2.4.1要求的试样,在进行去油,酸洗等电镀前处理时.如果不慎因腐蚀或磨损改变了试样表面的粗糙度时将使整平性测量结果产生较大偏差。6试验报告

试验报告一般应包括下列内容:a.

被测镀液(包括添加剂)名称及型号;本标准号及使用的试验方法:

试验仪器及设备;

试验条件;

试验结果及计算公式:

试验过程中异常现象;

试验日期及试验人员。

附加说明:

本标准由全国金属与非金属覆盖层标委会提出。本标准由机械工业部武汉材料保护研究所归口并负责起草。本标准主要起草人朱鳌生。

现行

北检院检验检测中心能够参考《JB/T 7704.5-1995 电镀溶液试验方法 整平性试验》中的检验检测项目,对规范内及相关产品的技术要求及各项指标进行分析测试。并出具检测报告。

检测范围包含《JB/T 7704.5-1995 电镀溶液试验方法 整平性试验》中适用范围中的所有样品。

测试项目

按照标准中给出的实验方法及实验方案、对需要检测的项目进行检验测试,检测项目包含《JB/T 7704.5-1995 电镀溶液试验方法 整平性试验》中规定的所有项目,以及出厂检验、型式检验等。

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5、深度分析:根据成分分析对采购的原料标准品做准确的定性定量检测,然后给出参考工艺及原料的推荐。最后对产品的质量控制及生产过程中出现问题及时解决。

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