SJ 20744-1999 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则

标准中涉及的相关检测项目

标准《SJ 20744-1999 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则》主要涉及到的检测项目包括半导体材料中的各种杂质含量。这些杂质可能会影响半导体材料的性能，因此精确的分析和监控是必不可少的。

检测项目通常包括以下几个方面：

• 杂质元素的种类与含量，如氧、氢、碳等。
• 其他微量元素或化合物的浓度。
• 材料的光谱特性分析。

检测方法主要是基于红外吸收光谱分析。它通过测量材料对特定波长红外光的吸收程度来确定杂质的种类和含量。这种方法具有以下特点：

• 灵敏度高，能够检测到微量杂质。
• 非破坏性，样品可以继续进行后续加工或测试。
• 操作相对简单，结果分辨率高。

涉及产品则主要为各种类型的半导体材料，这其中包括但不限于：

• 硅材料，如单晶硅和多晶硅。
• 化合物半导体材料，如砷化镓、氮化镓等。
• 其他新型半导体材料。

这些材料被广泛应用于电子、光电、通讯等高科技产业，因此其性能的可靠性和稳定性至关重要，这也使得对杂质含量的精确检测成为行业的关键环节之一。

SJ 20744-1999 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则的基本信息

标准名：半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则

标准号：SJ 20744-1999

标准类别：电子行业标准(SJ)

发布日期：1999-11-10

实施日期：1999-12-01

标准状态：现行

SJ 20744-1999 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则的简介

SJ 20744-1999 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则的部分内容

北检院检验检测中心能够参考《SJ 20744-1999 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则》中的检验检测项目，对规范内及相关产品的技术要求及各项指标进行分析测试。并出具检测报告。

检测范围包含《SJ 20744-1999 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则》中适用范围中的所有样品。

测试项目

按照标准中给出的实验方法及实验方案、对需要检测的项目进行检验测试，检测项目包含《SJ 20744-1999 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则》中规定的所有项目，以及出厂检验、型式检验等。

热门检测项目推荐

检测流程

线上咨询或者拨打咨询电话;

获取样品信息和检测项目;

支付检测费用并签署委托书;

开展实验，获取相关数据资料;

出具检测报告。

北检研究院的服务范围

1、指标检测：按国标、行标及其他规范方法检测

2、仪器共享：按仪器规范或用户提供的规范检测

3、主成分分析：对含量高的组分或你所规定的某种组分进行5~7天检测。

4，样品前处理：对产品进行预处理后，进行样品前处理，包括样品的采集与保存，样品的提取与分离，样品的鉴定以及样品的初步分析，通过逆向剖析确定原料化学名称及含量等共10个步骤;

5、深度分析：根据成分分析对采购的原料标准品做准确的定性定量检测，然后给出参考工艺及原料的推荐。最后对产品的质量控制及生产过程中出现问题及时解决。